空間成像分辨率由激光波長決定。因此，自然地，更多的應用希望拓展到極紫外XUV或EUV激光成像。應用包括XUV衍射成像、極紫外相關層析成像等。 實驗人員一般會將聚焦XUV激光照射樣品，然后通過收集散射光，通過先進的相位反演算法就可以獲得樣品圖樣。 

產(chǎn)品推薦：

我司提供波長在20-150ev（以常用納米單位，為：8-63nm）的XUV一體化光源。整套設備由4部分組成：<100w 1030nm飛秒光纖激光激發(fā)源、<40fs脈寬壓縮器、HHG產(chǎn)生和單色儀，和XUV聚焦單元。 設備可以工作在100KHz-1MHz。設備輸出目前市場上非常出色的光子通量：每秒>10^10次。該設備通過更換驅動源為1950nm飛秒激光器，波長可以拓展至330ev。 

設備體積小巧，開創(chuàng)性地實現(xiàn)了將類“同步輻射裝置”搬到普通用戶實驗室，將大大幫助到相關科研人員。